石英玻璃是由二氧化硅單一組分構(gòu)成的特種工業(yè)技術(shù)玻璃，由于其具有耐溫、耐絕大部分酸、低膨脹等特殊理化性能，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、光通訊、電光源等高新技術(shù)領(lǐng)域。傳統(tǒng)的光學(xué)石英玻璃制備工藝有間接合成法、溶膠-凝膠法、電熔法、氣煉法、化學(xué)氣相沉積法、等離子化學(xué)氣相沉積法等。

　　間接合成法

　　間接合成法是相對于目前較常見的四種“直接”工藝技術(shù)而言的，其包括低密度二氧化硅疏松體的沉積和燒結(jié)兩個主要工序。即以含硅化合物為原料，采用低溫化學(xué)氣相沉積工藝沉積形成低密度二氧化硅疏松體，其后燒結(jié)過程與摻雜、脫水、脫氣、致密化同時進行，直至達到玻璃化。

　　溶膠－凝膠法

　　溶膠－凝膠法制備石英玻璃塊體時，其坯體易開裂，有機原料引入的殘余碳會使玻璃在熔制的過程產(chǎn)生黑斑和氣泡，而且制備過程反應(yīng)時間較長，不利于工業(yè)上規(guī)模化生產(chǎn)。

　　電熔法和氣煉法

　　電熔和氣煉工藝均以高純石英砂為原料，經(jīng)過1800℃以上高溫熔制成石英玻璃。但制成的石英玻璃純度低、紫外透過率差、氣泡雜點多，嚴重影響光學(xué)性能，難以滿足高端光電技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用需求。

　　化學(xué)氣相沉積法

　　化學(xué)氣相沉積法制備的合成石英玻璃金屬雜質(zhì)含量低、遠紫外透過率高、光學(xué)均勻性高，但紅外光學(xué)性能較差。此類合成石英玻璃廣泛應(yīng)用于航天、集成電路、精密儀器和激光核技術(shù)等領(lǐng)域。

　　等離子化學(xué)氣相沉積法

　　等離子化學(xué)氣相沉積法以高純四氯硅烷為原料，用高頻等離子體火焰代替氫氧火焰。該工藝制備的石英玻璃金屬雜質(zhì)和羥基含量低、紫外－紅外光譜透過性能優(yōu)良、折射率穩(wěn)定、結(jié)構(gòu)均勻性良好，且無氣泡和雜點，因此廣泛用作各類光學(xué)透鏡和高穩(wěn)定性慣導(dǎo)器件的基材。

　　90年代至今，國家引進先進技術(shù)，加強自主創(chuàng)新，使原料和生產(chǎn)工藝都取得了巨大進步，制備的石英產(chǎn)品質(zhì)量也在不斷提高。中低端石英制品已達到產(chǎn)業(yè)化，并可滿足國內(nèi)需求，但在突破制備高端石英制品的技術(shù)上還需不斷努力。

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